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1. 大幅面阵列光源
光源有效尺寸：400×400mm
功率密度：450mw/cm²
波长：365nm
2.晶圆级基片曝光
有效曝光距离：15-25mm
最大支持12英寸基片曝光
3. 大尺寸真空腔体
真空度：-90kpa
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提供-90kPa的稳定真空环境，有效减少空气散射与氧化干扰，确保曝光的高均匀性与一致性
搭载高功率365nm紫外曝光光源，支持高强度、高效率的曝光处理
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