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1. 密闭式无氧固化腔
需外接高纯氮气工作
腔内氧气控制浓度范围：1.0% - 25.0%
氧气浓度监控精度：0.5%
2. 高均匀度UV曝光系统
365 nm LED 冷光源阵列
紫外功率密度范围：0 - 150 mw/cm2
光强均匀度：>80%
有效光斑尺寸：Ø100 mm
3. 其他模块
设备尺寸：400×300×400 mm3
氮气发生装置（选配）
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封闭式氮气保护腔体，有效抑制氧阻聚，提高UV固化效率
匀化阵列式UV曝光模块，保障大口径薄膜均匀固化
兼顾科研验证与稳定量产，适用于光学波片与功能薄膜制备
